Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano
| Wi-Fi | Zakaz palenia Pomieszczenia dla niepalących | Klimatyzacja |
| Zwierzęta nie są dozwolone Zakaz wprowadzania zwierząt |
Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano Rio de Janeiro o powierzchni 38 m² oferuje nowoczesne udogodnienia, takie jak Wi-Fi. Dogodna lokalizacja w pobliżu muzeum. Apartament jest położony prawie 25 min piechotą od dworca kolejowego Estação D Pedro II.
Ten apartament jest położony w dzielnicy Centrum Rio de Janeiro, 0,8 km od lotniska Dumont. Obiekt noclegowy jest zaledwie 25 min spacerem od centrum miasta.
W apartamencie Goście mają do dyspozycji miejsce do pobytu dziennego z klimatyzacją. Obiekt oferuje oddzielną toaletę i prysznic.
W tym apartamencie do dyspozycji Gości jest aneks kuchenny, gdzie można samodzielnie przygotowywać posiłki. 1-pokojowy Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano jest położony 700 m od przystanku autobusowego Ponto de Oni Executivo oraz w małej odległości od stacji metra Cinelandia.
- Lokalne atrakcje
- Kościół Candelaria1,2 km
- Museu Histórico Nacional900 m
- Zatoka Guanabara1,9 km
- Sambadrome2,3 km
- Municipal Theatre250 m
- Centro Cultural Banco do Brasil1,1 km
- Aterro do Flamengo1,8 km
- marina da gloria3,7 km
- Lotniska
- Lotnisko Dumont1,5 km
- Stacje kolejowe
- Dworzec kolejowy Estação D Pedro II2 km
Do dyspozycji gości w hotelu
O hotelu
- Pomieszczenia dla niepalących
- Wi-Fi
- Zakaz wprowadzania zwierząt
Do dyspozycji gości w pokoju
- Klimatyzacja
- Minibar
- Telewizor LCD
Ważna informacja
Często Zadawane Pytania
- ❓
Czy Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano obejmuje kuchnię?
Tak, Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano oferuje aneks kuchenny. - ❓
Czy Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano znajduje się w odległości spaceru od dworca kolejowego?
Apartamento Ao Lado Do Metro Da Cinelandia E Consulado Americano oddalony jest o 25 min spacerem od Estação D Pedro II.
